X射線能譜儀的能譜分析中出現(xiàn)的假峰是什么情況？
分析某些元素時可能會出現(xiàn)和峰，和峰的出現(xiàn)會造成和峰附近的背底變形，如果與其他峰出現(xiàn)重疊，計算結(jié)果時即使扣除背底也不能得到滿意的結(jié)果。此時，需要改變采譜條件，減少計數(shù)率，減小和峰對背底的影響，避免和峰的出現(xiàn)。計數(shù)率可通過改變束流、更換光闌、調(diào)節(jié)探測器與樣品間的距離等措施來調(diào)節(jié)。
逃逸峰是探測器在檢測過程中產(chǎn)生的，出現(xiàn)在入射峰左邊1.734keV處。一般來說，只有原子序數(shù)在15~28時才有可能出現(xiàn)逃逸峰。
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